기본적인 지식을 다시한번 확실하게 정리할 수 있었습니다.
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DRAM, FLASH MEMORY, PN diode, MOSFET의 동작원리, 구성요소같은
기본적인 지식을 다시한번 확실하게 정리할 수 있었습니다. 또한, Clean room, wafer, chamber와 같이 반도체 공정 관련한 기초지식을 얻을 수 있었고, CVD와 PVD에 대해 구체적으로 알 수 있었습니다.
특히, LPCVD, PECVD, ALD의 차이점과 각각의 장점,단점에 대해 알 수 있었고, 도체를 도금하는 전해도금과 부도체를 도금하는 무전해도금의 과정에 대해서도 알 수 있었습니다.
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